เครื่องเคลือบผิวนาโน

คุณสมบัติ :

        สามารถflow gas ผ่าน เพื่อควบคุมบรรยากาศ เช่น Ar ผสมO2 หรือN2 หรืออื่นๆตามต้องการหรือทำในอากาศปกติได้ ผิวเคลือบที่ได้จะมีลักษณะพิเศษกว่าวิธีเคลือบ PVD แบบอื่นๆ คือได้ nanoparticle thin films ที่มี specific surface area สูง เหมาะสำหรับงานวิจัยด้าน sensors, solar cells, supercapacitors, และ catalysts เป็นต้น

คุณลักษณะ

·       -สามารถเคลือบผิวชิ้นงานขนาด 10 มม. x 10มม.

·       -ควบคุมความหนาได้ตั้งแต่ระดับ นาโน ถึงไมโครเมตร

·       -ควบคุมบรรยากาศหรือแก๊สขณะเคลือบได้

·       -ควบคุมอัตราการเติบโตของฟิล์มได้

·       -ใช้เคลือบสารประกอบใดๆ เช่น M-Doped ABO2 (Semiconducting Delafossit Oxides)  ได้เมื่อขยายเป็น 3 คู่หัว สปาร์ก   

         ราคายังไม่รวมภาษีมูลค่าเพิ่ม

i